光刻技术的原理是什么
更新时间：2020-09-27 00:00:00
光刻技术的原理：集成电路制造中利用光学、化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2至3个数量级，已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。
云一题专稿内容，转载请注明出处
不够精彩？
上一篇 : 为什么外消旋体没有旋光性
下一篇 : 卡斯罗特是哪个国家的
热门经验推荐
联系方式：